Действующий
Значение отрицательного логарифма массы фтор-иона в аликвотной части анализируемого раствора по графику или в "искусственной" форме записи - 2,54. Антилогарифм этого числа равен 0,0347.
Примечание. Для удобства обработки результатов рекомендуется применять при построении графика полулогарифмическую бумагу. При этом график строят в координатах "концентрация фтор-иона в аликвотной части раствора в миллиграммах на кубический сантиметр или молях на кубический дециметр - разность потенциалов в милливольтах".
Термин | Пояснение |
1. Стандартный раствор | Раствор с точно известной концентрацией элемента |
2. Градуировочный раствор | Раствор с известной концентрацией определяемого элемента, используемый для построения градуировочного графика в инструментальных методах анализа |
3. Основная навеска | Навеска стандартного образца состава вещества в граммах, которой условно соответствует аттестованное значение элемента, приведенное в свидетельстве на образец, и по отношению к которой рассчитывают концентрации серии градуировочных растворов |
4. Основной раствор | Раствор с известной концентрацией элемента, приготовленный из основной навески |
5. Солевой раствор | Раствор, применяемый в фотометрическом или ионоселективном методах, для обеспечения устойчивости реакции, используемый для определения элемента |
6. Холостой раствор | Раствор, составленный из применяемых в конкретном анализе реактивов и воды, для учета их загрязнения и внесения поправок при обработке результатов анализа |
Рентгеноспектральный метод является экспресс-методом, основанным на возбуждении атомов элементов и измерении интенсивности их характеристических линий флуоресцентного излучения.
Спектрометр рентгеновский многоканальный дифракционный дискретного действия, позволяющий анализировать легкие элементы, начиная с магния ( ) с одновременной регистрацией излучения не менее шести элементов.
Смесь для сплавления: безводный тетраборат или метаборат лития, прокаленный при температуре не менее 700 град.С, углекислый литий и азотно-кислый натрий смешивают в фарфоровой ступке в процентном отношении 75:20:5 (в случае использования тетрабората лития) или 85:10:5 (в случае использования метабората лития).
Подложка графитовая дискообразная диаметром 30 мм из электродного графита марок ГМЗ, ГЭ или других аналогичных (черт.2).
Штатив с опускающимся штампом для формования поверхности наплавленного слоя образца-излучателя (черт.5).